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11月28日

  • TSMC Formally Sues Ex-SVP Over Alleged Transfer of Trade Secrets to Intel

    台积电正式起诉前高级副总裁涉嫌向英特尔转让商业机密

    ➀ 台积电正式起诉前高级副总裁魏正伦,指控其欺骗公司退休意图并携带20箱手写笔记移交给Intel。

    ➁ 魏正伦拥有丰富半导体经验:1979年伯克利加州大学固态物理与表面化学博士,Intel18年任职后2004年加入TSMC。

    ➂ Intel CEO Lip-Bu Tan公开支持魏正伦;台湾检察院突袭搜查,案件涉及刑事与民事层面,对Intel-TSMC关系构成挑战。

    IntelTSMC
  • TSMC Formally Sues Ex-SVP Over Alleged Transfer of Trade Secrets to Intel

    台积电正式起诉前资深副总裁涉嫌向英特尔转移商业机密

    ➀ 台积电起诉前资深副总裁魏振家(Wei-Jen Lo),指控其谎称退休而实际加入英特尔,并带走20箱手写笔记涉嫌窃取商业机密。

    ➁ 魏振家职业生涯辉煌:伯克利加州大学固态物理博士,曾在英特尔工作18年负责技术开发,后2004年加入台积电担任高管;英特尔为其辩护,称其加入制造与封装部门。

    ➂ 台湾检察官突击搜查其住所展开刑事调查;事件损害台积电与英特尔关系,质疑75岁高龄且持有大量台积电股票的魏振家动机。

    IntelsemiconductorTSMC
  • TSMC Formally Sues Ex-SVP Over Alleged Transfer of Trade Secrets to Intel

    台积电正式起诉前资深副总裁涉嫌向英特尔转移商业机密

    ➀ 台积电起诉前资深副总裁魏振家(Wei-Jen Lo),指控其谎称退休而实际加入英特尔,并带走20箱手写笔记涉嫌窃取商业机密。

    ➁ 魏振家职业生涯辉煌:伯克利加州大学固态物理博士,曾在英特尔工作18年负责技术开发,后2004年加入台积电担任高管;英特尔为其辩护,称其加入制造与封装部门。

    ➂ 台湾检察官突击搜查其住所展开刑事调查;事件损害台积电与英特尔关系,质疑75岁高龄且持有大量台积电股票的魏振家动机。

    TSMCIntelsemiconductor
  • TSMC Formally Sues Ex-SVP Over Alleged Transfer of Trade Secrets to Intel

    台积电正式起诉前高级副总裁涉嫌向英特尔转让商业机密

    ➀ 台积电正式起诉前高级副总裁魏正伦,指控其欺骗公司退休意图并携带20箱手写笔记移交给Intel。

    ➁ 魏正伦拥有丰富半导体经验:1979年伯克利加州大学固态物理与表面化学博士,Intel18年任职后2004年加入TSMC。

    ➂ Intel CEO Lip-Bu Tan公开支持魏正伦;台湾检察院突袭搜查,案件涉及刑事与民事层面,对Intel-TSMC关系构成挑战。

    TSMCIntel

11月16日

  • CEO Interview with Mr. Shoichi Teshiba of Macnica ATD

    专访Macnica ATD欧洲公司CEO手柴昌一

    ➀ Macnica ATD Europe作为全球技术分销商Macnica Inc.的子公司,专注于通过技术支持和市场战略,将半导体、AI和成像技术创新与EMEA市场连接。

    ➁ 公司在应对边缘AI优化、软硬件集成和供应链管理等挑战的同时,核心优势集中在汽车半导体解决方案与AI加速嵌入式系统领域。

    ➂ 通过分销与咨询的混合模式,Macnica ATD以协同创新生态、内部工程能力和本地化支持能力,覆盖客户从设计咨询到产品生命周期的全阶段需求。

    Edge AIMacnica ATDsemiconductor
  • CEO Interview with Mr. Shoichi Teshiba of Macnica ATD

    专访Macnica ATD欧洲公司CEO手柴昌一

    ➀ Macnica ATD Europe作为全球技术分销商Macnica Inc.的子公司,专注于通过技术支持和市场战略,将半导体、AI和成像技术创新与EMEA市场连接。

    ➁ 公司在应对边缘AI优化、软硬件集成和供应链管理等挑战的同时,核心优势集中在汽车半导体解决方案与AI加速嵌入式系统领域。

    ➂ 通过分销与咨询的混合模式,Macnica ATD以协同创新生态、内部工程能力和本地化支持能力,覆盖客户从设计咨询到产品生命周期的全阶段需求。

    Macnica ATDsemiconductorEdge AI

11月10日

  • CEO Interview with Rodrigo Jaramillo of Circuify Semiconductors

    Circuify半导体CEO Rodrigo Jaramillo专访:构建拉丁美洲芯片生态与Chiplet前沿技术

    ➀ Circuify半导体在CEO Rodrigo Jaramillo带领下,携手墨西哥政府打造拉丁美洲“硅谷”生态系统,成为区域半导体创新核心;

    ➁ 公司在5nm以下先进制程领域提供完整芯片设计服务,以Chiplet架构、模拟混合信号开发及自有IP战略形成技术壁垒;

    ➂ 通过高校合作培养工程人才,采用三种客户协作模式(系统级共创/模块设计/项目加速)解决行业开发周期与成本痛点。

    Analog-Mixed-SignalChipletHPC

11月9日

  • CEO Interview with Rodrigo Jaramillo of Circuify Semiconductors

    Circuify半导体CEO Rodrigo Jaramillo专访:构建拉丁美洲芯片生态与Chiplet前沿技术

    ➀ Circuify半导体在CEO Rodrigo Jaramillo带领下,携手墨西哥政府打造拉丁美洲“硅谷”生态系统,成为区域半导体创新核心;

    ➁ 公司在5nm以下先进制程领域提供完整芯片设计服务,以Chiplet架构、模拟混合信号开发及自有IP战略形成技术壁垒;

    ➂ 通过高校合作培养工程人才,采用三种客户协作模式(系统级共创/模块设计/项目加速)解决行业开发周期与成本痛点。

    ChipletHPCAnalog-Mixed-Signal
  • Predicting Stochastic EUV Defect Density with Electron Noise and Resist Blur Models

    基于电子噪声与光刻胶模糊模型预测EUV随机缺陷密度

    ➀ 本研究首次将二次电子噪声与更新的光刻胶模糊模型(化学放大光刻胶用高斯模型、金属氧化物光刻胶用指数模型)结合,用于预测EUV光刻中的随机缺陷。

    ➁ 缺陷概率随尺寸增大呈指数下降,而靠近图形边缘的缺陷密度更高;光刻胶模糊会降低对比度,使像素缺陷概率趋近50%。

    ➂ 当光刻制程推进至20纳米以下节距时,电子噪声与分子级光刻胶特性超越光学参数成为主导因素,多重曝光技术势在必行。

    EUV光刻胶随机缺陷

11月8日

  • Predicting Stochastic EUV Defect Density with Electron Noise and Resist Blur Models

    基于电子噪声与光刻胶模糊模型预测EUV随机缺陷密度

    ➀ 本研究首次将二次电子噪声与更新的光刻胶模糊模型(化学放大光刻胶用高斯模型、金属氧化物光刻胶用指数模型)结合,用于预测EUV光刻中的随机缺陷。

    ➁ 缺陷概率随尺寸增大呈指数下降,而靠近图形边缘的缺陷密度更高;光刻胶模糊会降低对比度,使像素缺陷概率趋近50%。

    ➂ 当光刻制程推进至20纳米以下节距时,电子噪声与分子级光刻胶特性超越光学参数成为主导因素,多重曝光技术势在必行。

    EUV光刻胶随机缺陷

10月27日

  • CAST Simplifies RISC-V Embedded Processor IP Adoption with New Catalyst Program

    CAST推出新Catalyst计划,简化RISC-V嵌入式处理器IP的采用

    ➀ CAST推出Catalyst™计划,通过预配置的RISC-V IP核简化嵌入式系统开发流程;

    ➁ 提供五款针对物联网、工业控制和边缘计算优化的处理器核,搭配免预付费的灵活授权模式;

    ➂ 预计缩短20-30%开发周期,降低中小型企业采用RISC-V技术的门槛。

    CASTembeddedRISC-V

10月26日

  • CEO Interview with Alex Demkov of La Luce Cristallina

    La Luce Cristallina CEO Alex Demkov专访

    ➀ La Luce Cristallina开发200毫米钡钛酸钡(BaTiO₃)晶圆,克服硅光子调制器的性能瓶颈,其耐高温和辐射特性优于锂铌酸锂(LiNbO₃)。

    ➁ 该技术面向数据中心光互连需求,支持AI、量子计算及国防领域,提供高密度、低功耗的光电解决方案。

    ➂ 公司通过美国本土化生产和规模效应降低成本,并规避中国薄膜锂铌酸盐供应链风险。

    Data centerHPCsemiconductor
  • CAST Simplifies RISC-V Embedded Processor IP Adoption with New Catalyst Program

    CAST推出新Catalyst计划,简化RISC-V嵌入式处理器IP的采用

    ➀ CAST推出Catalyst™计划,通过预配置的RISC-V IP核简化嵌入式系统开发流程;

    ➁ 提供五款针对物联网、工业控制和边缘计算优化的处理器核,搭配免预付费的灵活授权模式;

    ➂ 预计缩短20-30%开发周期,降低中小型企业采用RISC-V技术的门槛。

    CASTRISC-Vembedded
  • CEO Interview with Alex Demkov of La Luce Cristallina

    La Luce Cristallina CEO Alex Demkov专访

    ➀ La Luce Cristallina开发200毫米钡钛酸钡(BaTiO₃)晶圆,克服硅光子调制器的性能瓶颈,其耐高温和辐射特性优于锂铌酸锂(LiNbO₃)。

    ➁ 该技术面向数据中心光互连需求,支持AI、量子计算及国防领域,提供高密度、低功耗的光电解决方案。

    ➂ 公司通过美国本土化生产和规模效应降低成本,并规避中国薄膜锂铌酸盐供应链风险。

    semiconductorData centerHPC

10月24日

  • IPLM Today and Tomorrow from Perforce

    Perforce IPLM的今日与未来展望

    ➀ Perforce IPLM 提供了集中式半导体IP管理框架,通过元数据和版本追踪取代传统手动管理,显著提升设计复用率并降低风险。

    ➁ 该平台打通硬件/软件协作流程,与西门子合作推动芯片与软件协同开发,并通过地理围栏等机制强化全球化合规能力。

    ➂ 未来发展方向包括AI辅助设计集成、CI/CD工具链深度对接,以及可视化交互界面优化,以支持软件定义系统的复杂开发需求。

    EDAIP ManagementPerforce
  • IPLM Today and Tomorrow from Perforce

    Perforce IPLM的今日与未来展望

    ➀ Perforce IPLM 提供了集中式半导体IP管理框架,通过元数据和版本追踪取代传统手动管理,显著提升设计复用率并降低风险。

    ➁ 该平台打通硬件/软件协作流程,与西门子合作推动芯片与软件协同开发,并通过地理围栏等机制强化全球化合规能力。

    ➂ 未来发展方向包括AI辅助设计集成、CI/CD工具链深度对接,以及可视化交互界面优化,以支持软件定义系统的复杂开发需求。

    PerforceEDAIP Management

10月23日

  • Better Automatic Generation of Documentation from RTL Code

    从RTL代码实现更优的自动化文档生成

    ➀ 传统芯片设计文档依赖人工更新,易与实现结果产生不一致;

    ➁ AMIQ EDA的Specador通过AI从RTL代码自动生成文档,支持多种硬件语言并与DVT IDE集成;

    ➂ 实现代码与文档的实时同步,大幅减少人工维护成本与错误率。

    AIEDASoftware
  • Better Automatic Generation of Documentation from RTL Code

    从RTL代码实现更优的自动化文档生成

    ➀ 传统芯片设计文档依赖人工更新,易与实现结果产生不一致;

    ➁ AMIQ EDA的Specador通过AI从RTL代码自动生成文档,支持多种硬件语言并与DVT IDE集成;

    ➂ 实现代码与文档的实时同步,大幅减少人工维护成本与错误率。

    EDAAISoftware

10月21日

  • The AI PC: A New Category Poised to Reignite the PC Market

    AI PC:有望重燃PC市场的新兴品类

    ➀ AI PC革命通过集成专用神经处理单元(NPU),实现脱离云端的设备端AI运算能力,其影响力堪比1981年IBM PC对个人计算的重新定义。

    ➁ 苹果凭借M系列芯片的垂直整合架构和自研神经引擎,以35 TOPS算力和全系标配策略占据先机,相较x86阵营2023年才推出首款NPU产品,已取得三年技术代差优势。

    ➂ Gartner预测2025年全球AI PC出货量将突破1.14亿台(年增165%),企业级AI工作流和个人AI助理需求正成为驱动PC市场复苏的核心动力。

    AI PCAppleNPU

10月20日

  • The Rise, Fall, and Rebirth of In-Circuit Emulation: Real-World Case Studies (Part 2 of 2)

    电路内仿真的兴衰与重生:真实案例研究(下篇)

    ➀ Synopsys速度适配器通过真实硬件与仿真的结合,发现虚拟模型中无法检测的RTL缺陷,提升系统验证精度;

    ➁ 利用速度适配器进行物理层测试,将PHY编程与训练从数月缩短至数周,确保PCIe Gen5和UFS接口符合规范;

    ➂ 系统验证服务器(SVS)发现传统ICE遗漏的PCIe配置错误,避免数千万美元的芯片重新流片风险。

    EDAICESynopsys
  • The AI PC: A New Category Poised to Reignite the PC Market

    AI PC:有望重燃PC市场的新兴品类

    ➀ AI PC革命通过集成专用神经处理单元(NPU),实现脱离云端的设备端AI运算能力,其影响力堪比1981年IBM PC对个人计算的重新定义。

    ➁ 苹果凭借M系列芯片的垂直整合架构和自研神经引擎,以35 TOPS算力和全系标配策略占据先机,相较x86阵营2023年才推出首款NPU产品,已取得三年技术代差优势。

    ➂ Gartner预测2025年全球AI PC出货量将突破1.14亿台(年增165%),企业级AI工作流和个人AI助理需求正成为驱动PC市场复苏的核心动力。

    AppleAI PCNPU
  • The Rise, Fall, and Rebirth of In-Circuit Emulation: Real-World Case Studies (Part 2 of 2)

    电路内仿真的兴衰与重生:真实案例研究(下篇)

    ➀ Synopsys速度适配器通过真实硬件与仿真的结合,发现虚拟模型中无法检测的RTL缺陷,提升系统验证精度;

    ➁ 利用速度适配器进行物理层测试,将PHY编程与训练从数月缩短至数周,确保PCIe Gen5和UFS接口符合规范;

    ➂ 系统验证服务器(SVS)发现传统ICE遗漏的PCIe配置错误,避免数千万美元的芯片重新流片风险。

    SynopsysICEEDA
  • CMOS 2.0 is Advancing Semiconductor Scaling

    CMOS 2.0推动半导体微缩技术发展

    ① 比利时微电子研究中心(imec)通过晶圆混合键合(250nm间距)和背面供电网络(BSPDN),实现逻辑/存储单元的异质三维堆叠;

    ② 采用120nm间距纳米硅穿孔(TDV)和超薄晶圆减薄技术,将移动SoC的IR压降降低122mV,优化供电效率;

    ③ 系统-技术协同优化(STCO)策略,支持功能层专业化分工,在2nm节点实现22%面积节省,突破传统摩尔定律限制。

    3D ICBSPDNImec

10月19日

  • CEO Interview with Dr. Bernie Malouin Founder of JetCool and VP of Flex Liquid Cooling

    JetCool创始人兼Flex液冷部门副总裁Bernie Malouin博士CEO访谈

    ➀ JetCool的SmartPlate™技术通过靶向芯片热点和降低热阻,比传统液冷方案效能提升超20%;

    ➁ 借助Flex的垂直整合能力,可全球交付经认证的机架系统,降低10-15%功耗和90%用水量,并加速部署周期;

    ➂ 提供从风冷试点到支持实时监测的1MW液冷机架分阶段解决方案,解决AI基础设施代际兼容性挑战。

    FlexJetCoolCooling
  • CMOS 2.0 is Advancing Semiconductor Scaling

    CMOS 2.0推动半导体微缩技术发展

    ① 比利时微电子研究中心(imec)通过晶圆混合键合(250nm间距)和背面供电网络(BSPDN),实现逻辑/存储单元的异质三维堆叠;

    ② 采用120nm间距纳米硅穿孔(TDV)和超薄晶圆减薄技术,将移动SoC的IR压降降低122mV,优化供电效率;

    ③ 系统-技术协同优化(STCO)策略,支持功能层专业化分工,在2nm节点实现22%面积节省,突破传统摩尔定律限制。

    Imec3D ICBSPDN
  • CEO Interview with Dr. Bernie Malouin Founder of JetCool and VP of Flex Liquid Cooling

    JetCool创始人兼Flex液冷部门副总裁Bernie Malouin博士CEO访谈

    ➀ JetCool的SmartPlate™技术通过靶向芯片热点和降低热阻,比传统液冷方案效能提升超20%;

    ➁ 借助Flex的垂直整合能力,可全球交付经认证的机架系统,降低10-15%功耗和90%用水量,并加速部署周期;

    ➂ 提供从风冷试点到支持实时监测的1MW液冷机架分阶段解决方案,解决AI基础设施代际兼容性挑战。

    JetCoolFlexCooling

10月13日

  • Selling the Forges of the Future: U.S. Report Exposes China’s Reliance on Western Chip Tools

    出售未来之熔炉:美国报告揭露中国对西方芯片制造设备的依赖

    ➀ 美国国会报告指出,中国2024年斥资380亿美元采购西方半导体设备,在全球市场占比达39%,凸显出口管制漏洞;

    ➁ 中芯国际、长江存储及华为关联企业等受限制实体获得45%的设备销售,利用「节点不敏感」设备突破封锁,生产7纳米军用/AI芯片;

    ➂ 报告提出九项对策,包括扩大先进/成熟制程设备禁令、强化追踪机制、支持本土企业,以遏制中国千亿美元级半导体国产化计划。

    ASMLExport Controlssemiconductor

10月12日

  • SEMICON West AZ- Congress & China- Memory Madness- AI Semiconductor Tsunami

    SEMICON West亚利桑那站:国会聚焦中国、内存热潮与AI半导体浪潮

    ➀ 亚利桑那首届SEMICON展会成功举办,应用材料发布三款关键新品(Kinex晶圆键合系统、Xtera外延沉积系统、PROVision电子束检测工具),展示先进封装与芯片制造技术;

    ➁ 美国国会发布两党报告,点名应用材料、Lam Research等五大设备商对华销售潜在威胁国家安全,呼吁全面限制300mm设备出口;

    ➂ AI爆发推动内存市场进入超级周期,SK海力士与OpenAI的90万片/月晶圆协议预示需求井喷,但产能扩张或引发未来剧烈波动。

    AIApplied MaterialsBESI
  • Selling the Forges of the Future: U.S. Report Exposes China’s Reliance on Western Chip Tools

    出售未来之熔炉:美国报告揭露中国对西方芯片制造设备的依赖

    ➀ 美国国会报告指出,中国2024年斥资380亿美元采购西方半导体设备,在全球市场占比达39%,凸显出口管制漏洞;

    ➁ 中芯国际、长江存储及华为关联企业等受限制实体获得45%的设备销售,利用「节点不敏感」设备突破封锁,生产7纳米军用/AI芯片;

    ➂ 报告提出九项对策,包括扩大先进/成熟制程设备禁令、强化追踪机制、支持本土企业,以遏制中国千亿美元级半导体国产化计划。

    ASMLsemiconductorExport Controls
  • SEMICON West AZ- Congress & China- Memory Madness- AI Semiconductor Tsunami

    SEMICON West亚利桑那站:国会聚焦中国、内存热潮与AI半导体浪潮

    ➀ 亚利桑那首届SEMICON展会成功举办,应用材料发布三款关键新品(Kinex晶圆键合系统、Xtera外延沉积系统、PROVision电子束检测工具),展示先进封装与芯片制造技术;

    ➁ 美国国会发布两党报告,点名应用材料、Lam Research等五大设备商对华销售潜在威胁国家安全,呼吁全面限制300mm设备出口;

    ➂ AI爆发推动内存市场进入超级周期,SK海力士与OpenAI的90万片/月晶圆协议预示需求井喷,但产能扩张或引发未来剧烈波动。

    Applied MaterialsBESIAI