ASML launches revolutionary lithography scanner for advanced 3D chip packaging — Twinscan XT:360 machine quadruples throughput
ASML推出革命性光刻机Twinscan XT:360,推动3D芯片封装进入超摩尔时代
➀ 阿斯麦发布全球首款专为3D封装设计的光刻机XT:260,相比竞品生产效率提升4倍;
➁ 支持400nm分辨率、1.7mm厚翘曲晶圆处理能力,无需拼接即可制造4倍EUV掩膜版尺寸的硅中介层;
➂ 该设备将加速TSMC/Intel等厂商的CoWoS、Foveros等先进封装技术落地,为AI/高性能计算芯片提供关键制造支持。