➀ 大日本印刷（DNP）和佳能宣布其最新的纳米印制光栅技术可实现10纳米线宽，满足1.4纳米工艺代级要求；

➁ 这种新的纳米印制技术可能有挑战EUV光刻在先进节点制造中的主导地位；

➂ 使用该NIL技术的生产设备据说即将准备好投入使用。