➀ 维尔茨堡大学研究人员开发出一种可在较高温度(-213°C)下工作的拓扑绝缘体,突破了此前需要接近绝对零度的限制;
➁ 该材料采用三层量子阱结构(InAs/GaInSb/InAs),通过增强带隙能量和结构对称性,实现更稳定的低损耗电子传输;
➂ 这一突破为兼容现有硅基技术的拓扑电子学铺平道路,支持可扩展的高能效器件开发。
➀ 维尔茨堡大学研究人员开发出一种可在较高温度(-213°C)下工作的拓扑绝缘体,突破了此前需要接近绝对零度的限制;
➁ 该材料采用三层量子阱结构(InAs/GaInSb/InAs),通过增强带隙能量和结构对称性,实现更稳定的低损耗电子传输;
➂ 这一突破为兼容现有硅基技术的拓扑电子学铺平道路,支持可扩展的高能效器件开发。