➀ 英特尔正在扩大其圣克拉拉市的鲍尔斯园区，以实现更多光刻掩模的内部生产；

➁ 该扩张包括一个新的制造设施和一座公用设施大楼；

➂ 新设施将支持深紫外（DUV）和极紫外光（EUV）层，重点关注英特尔18A和14A等先进工艺技术；

➃ 英特尔是唯一生产自己光刻掩模写工具的半导体生产商；

➄ 公司的IMS纳米制造子公司生产多束掩模写工具，以实现高吞吐量和精度。